微电子工业净化工程

微电子工业净化工程与微电子行业本身一样是对洁净室要求很高的行业。随着大规模集成电路(LSI)和VLS1的发展，微电子工业净化工程对粉尘控制的要求也是越来越高。在IC制造过程中，集成度越高，图形尺寸(以线宽表示)越薄，洁净室受控粒度尺寸越小(通常为线宽的1/10)，粉尘含量越低。此外，现代工业液晶、光纤生产，对微电子工业净化工程洁净度要求也很高。

微电子工业净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给与特别设计的密闭空间。

微电子工业净化工程也称无尘室或清净室，已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。微电子工业净化工程由于技术的创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型集成电路的研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目。